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【株式銘柄分析】KOKUSAI ELECTRIC(6525)~半導体製造装置大手 成膜装置 膜質改善 旧日立国際電気~

こんにちは、ToMO(@tomo2011_08)です。

 

私はサラリーマンをしながら、サイドFIREを目指しています。

 

サイドFIREを目指す上で重要なことの1つとして、「投資」があります。

投資をして、今ある資産を拡大し、経済的自立を達成して、自分のやりたいことを仕事にしたいと思っています。

 

様々な投資の方法がありますが、その中の1つとして株式投資があり、株式投資を行う上で株式銘柄を分析することは非常に重要なことです。

 

日本株式投資をされる方の必需品といえるのが、以下の四季報になります。

お持ちでない方は、以下から購入して読まれることをお勧めします。

 

 

銘柄の事業内容は?、業績はどうか?、配当はいくらなのか?、現在の株価はいくらか?などを知って、投資するかしないかを決定したり、買い時・売り時を判断したりします。

 

私はこれまで20年以上様々な日本株銘柄に投資をしてきましたが、株式銘柄を分析した結果を残すことはしてきませんでした。

それではもったいないということで、今後の銘柄分析の結果をブログに残し、自身のためのみならず、ブログを見て頂いている方にとっても役に立てれば良いと考えています。

 

決算発表時やIRが出たタイミングで、最新の情報に更新しますので、読者登録やブックマークをして定期的にチェック頂くと非常に効果的です。

また、更新時にはX(Twitter)で発信しますので、私のXをフォロー頂くとさらにタイムリーな情報が受け取れ、効果的ですので、フォローをよろしくお願いします。

 

 

今回は、半導体製造における成膜装置に特化する大手で、旧日立国際電気からのスピンオフ事業が母体のKOKUSAI ELECTRICについて調査をしました。

 

www.kokusai-electric.com

 

株式投資や就活のための企業研究をしておられる方におすすめの記事になります。

 

以下の情報は、2024年3月27日現在の情報になります。

 

 目次

 

会社概要

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

KOKUSAI ELECTRICは、半導体製造における成膜装置に特化する大手で、旧日立国際電気からのスピンオフ事業が母体の会社です。

東京証券取引所プライム市場の上場企業

 

当社グループは、半導体プロセスにおける成膜や膜質改善に強みがあり、バッチ成膜装置およびトリートメント装置の市場で高いシェアを誇る半導体製造装置メーカーです。

世界中の半導体メーカーが主なお客様であり、1949年の創業以来、70年以上にわたって「技術」と「対話」でお客様のニーズに応えてきました。

 

創業時は国際電気株式会社の、その後は株式会社日立国際電気の一事業として歩んできましたが、2018年に半導体製造装置専業の株式会社KOKUSAI ELECTRICとして独立し、再スタートしました。

 

当社グループを取巻く半導体バイス市場は、従来の携帯電話やパソコンなどのコンシューマー向けからデータセンタや5G、AIなどの高成長産業向けへと需要がシフトしながら急速に拡大しています。

これに伴い、半導体バイスはより複雑な三次元構造へのシフトが進んでおり、その構造はより深く、狭く、複雑になり、成膜が必要な表面積も拡大するため、より高品質・高性能で生産性の高い半導体製造装置が求められるようになり、半導体製造装置市場もまた急速な成長が見込まれています。

 

加速する半導体バイスの高密度化や高性能化に応える半導体製造装置を世の中に提供していくことは、私たちの使命であり、それには高度なチャレンジが必要です。

社会全体の先行きが見通せない状況下であっても、当社グループは、チャレンジを続けていきます。

 

当社グループでは、ステークホルダーの皆様との対話をより一層深め、技術で未来を支えていく決意を込め、これまでの企業理念を一新する形で「KOKUSAI ELECTRIC Way」を制定しました。

この新たな企業理念の実現に向け、コーポレートスローガン「技術と対話で未来をつくる」のもと、引き続きグループ一丸となって創造と革新が生まれる未来を支えていきます。

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

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沿革

当社の前身は、株式会社日立製作所の子会社として事業運営していた株式会社日立国際電気(旧 国際電気株式会社)における成膜プロセスソリューション事業(半導体製造装置事業)です。

 

株式会社日立製作所および株式会社日立国際電気は、当時の株式会社日立国際電気が運営していた映像・通信ソリューション事業および成膜プロセスソリューション事業のそれぞれについて経営の最適化を追求することをめざし、2017年2月に新たな資本パートナーとして投資ファンドであるKohlberg Kravis Roberts & Co. L.P(以下、「KKR」)を成膜プロセスソリューション事業の分割による売却先に選定しました。

その後、KKRが運営・管理する特別目的会社であるHKEホールディングス株式会社は、株式会社日立国際電気の株式の公開買い付けを実施し、株式会社日立国際電気は2018年3月に東京証券取引所市場第一部上場廃止となり、HKEホールディングス株式会社は2018年5月に株式会社日立国際電気を子会社化しました。

 

その後、2018年6月に株式会社日立国際電気が会社分割を行い、同社の成膜プロセスソリューション事業をHKEホールディングス株式会社(現 当社)が承継し、同時に株式会社KOKUSAI ELECTRICに商号変更して現在に至ります。

 

▼クリックで詳細表示

1949年 - 電気通信機器および高周波応用機器の製造販売を主目的とする国際電気株式会社を設立

1956年 - ゲルマニウム、シリコン単結晶引上装置を受注し、半導体製造装置事業を開始

1961年 - 世界で初めての高周波応用によるシリコン単結晶の性能測定用ライフタイム測定器と比抵抗測定器を開発

    国際電気株式会社が東京証券取引所に上場(同年10月 市場第一部銘柄に指定)

1963年 - 半導体製造装置における不純物拡散の研究を開始

1964年 - 半導体素子製造における不純物拡散の研究により拡散炉を開発

1970年 - CVD装置を開発

1971年 - アメリカのデラウェア州現地法人Kokusai Electric Co., of America(現 Kokusai Semiconductor Equipment Corporation)を設立

1977年 - ドイツのデュッセルドルフ現地法人Kokusai Electric Europe GmbH(現 Kokusai Semiconductor Europe GmbH)を設立

1983年 - 150mmウェーハ対応のシリコン・エピタキシャル成長装置(DC-7000)を開発

1985年 - 縦型CVD拡散装置「VERTEX®」の発売を開始

1987年 - 150mmウェーハ対応の縦型CVD装置(VERTEX®-Ⅱ)を開発

1989年 - 国際電気システムサービス株式会社(現 株式会社国際電気セミコンダクターサービス)を設立

    富山工場(現 富山事業所)創業開始

1990年 - 200mmウェーハ対応の縦型CVD装置(VERTEX®-Ⅲ)を開発

    自然酸化膜を抑止するロードロック装置(VERTEX®-Ⅴ(C))を開発

1991年 - 富山工場(現 富山事業所)・トレーニングセンタ開設

1993年 - 大韓民国天安市に現地法人Kook Je Electric Korea Co., Ltd.を設立(連結子会社

1996年 - 台湾に亜太國際電気股份有限公司を設立

    300mmウェーハ対応の縦型拡散・CVD装置(ZESTONE®-Ⅲ)を開発

    300mmウェーハ対応の枚葉CVD装置(ZESTONE®-Ⅶ)を開発

2000年 - 国際電気株式会社・日立電子株式会社・八木アンテナ株式会社が合併し、株式会社日立国際電気に商号変更

2001年 - 国際電気システムサービス株式会社が通信・情報部門を日立電子システムサービス株式会社に営業譲渡し、株式会社国際電気セミコンダクターサービスに商号変更

2002年 - 次世代プロセス対応枚葉プラズマ窒化装置(MARORA®)を開発

2003年 - Q-TAT(Quick-Turn Around Time)対応のQUIXACE®を開発

2005年 - NEW QUIXACE® L/L(QLV2)を開発

2008年 - 高生産性アッシング・アニールTANDUO®を開発

2010年 - Kooh Je Electric Korea Co., Ltd.平澤工場を建設

2011年 - QUIXACE ULTIMATE®を開発

    Kook Je Electric Korea Co., Ltd.天安工場を拡張

2015年 - 高生産性縦型装置AdvancedAce®-300を開発

2017年 - HKEホールディングス合同会社(現 当社)を東京都千代田区丸の内に設立

    富山工場(現 富山事業所)剱館完成

    HKEホールディングス合同会社(現 当社)からHKEホールディングス株式会社(現 当社)に組織変更

2018年 - 株式会社日立国際電気東京証券取引所市場第一部上場廃止

    HKEホールディングス株式会社(現 当社)が株式会社日立国際電気を完全子会社化

    会社分割により、株式会社日立国際電気の成膜プロセスソリューション事業をHKEホールディングス株式会社(現 当社)が承継し、株式会社KOKUSAI ELECTRICに商号変更

    当社の完全子会社となった株式会社日立国際電気普通株式を20%ずつ、株式会社日立製作所およびHVJホールディングス株式会社へ売却し、非連結子会社

    本店を東京都千代田区丸の内から東京都千代田区神田へ移転

2019年 - AdvancedAce®Ⅱを開発

2020年 - 高品質成膜・高性能半導体製造装置TSURUGI-C²®®を開発

    当社が株式会社日立国際電気の全株式をHVJホールディングス株式会社に売却し、株式会社日立国際電気を非子会社化

2021年 - 富山事業所がISO45001認証取得

    その他資本剰余金99億円を資本金に振替、資本金100億円となる無償増資を実施

2022年 - コーポレートスローガン「技術と対話で未来をつくる」を制定

    新企業理念「KOKUSAI ELECTRIC Way」を制定

2023年 - 東京証券取引所「プライム市場」に上場

 

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事業内容

KOKUSAI ELECTRICは、以下の3つの事業からなります。

 

当社グループは、当社およびグループ会社6社で構成され、半導体製造装置の開発・製造・販売・搬入・セットアップと、その装置のメンテナンス・修理・部品販売などのサービスを主要事業としています。

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

【連結事業】製品 69%、サービス 31%

【海外】87%

 

成膜プロセス装置

ウェーハの電子回路形成における回路素材となるポリシリコン膜や絶縁膜等の薄膜を形成する装置です。

この成膜工程は、ウェーハ上の回路形成において重要な役割を担うことから、各装置に高度な技術と信頼性の高い製品提供が不可欠となりますが、当社グループの主力製品であるバッチ成膜装置は、世界中の半導体バイスメーカーから高く評価され、世界トップクラスのシェアを有しています。

 

(引用:KOKUSAI ELECTRI公式HP)

 

トリートメント(膜質改善)プロセス装置

トリートメント(膜質改善)プロセス装置は、成膜後にプラズマや加熱により膜中の不純物の除去や粒子を安定させることで膜質の改善をすることを目的とした装置です。

半導体バイスの微細化、複雑化に伴い低温環境での成膜需要が高まる中で、低温環境でも膜質を維持するソリューションとして近年需要が拡大しています。

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

サービス

当社グループが製造・販売する半導体製造装置のアフターサービスを行っています。

 

半導体生産工場では、半導体製造装置が年中無休で稼働しています。

そのため、耐久性の高い製品はもちろん、製品のメンテナンスや修理・部品販売、装置の移設・改造等のアフターサービスを提供しています。

また、中古装置の販売等も行っているほか、お客様に当社グループが製造した半導体製造装置を、最も効率良く、正しくご使用いただくため、装置のメンテナンスや操作方法のレクチャーするトレーニングセンタを設置しています。

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

 

時価総額

KOKUSAI ELECTRIの時価総額9,232.30億です。(2024年3月27日現在)

 

社員の状況

従業員数:連結 2,473名

     単体 1,129名

平均勤続年数:17.40年

平均年齢:44.20歳

平均年収:976万円

 

 

業績

2023年10月25日に発表された2023年3月期の決算短信は以下です。

連結売上収益は2,457億2,100万円で、当期利益は403億500万円となっています。

売上高営業利益率22.82%でした。

 

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

2024年3月期の連結業績予想は減収減益になります。

 

次に、2024年2月9日に発表された2024年3月期の3Q決算の結果です。

連結売上収益は29.1%減、親会社の所有者に帰属する四半期利益は47.7%減の167億2,700万円となっています。

売上高営業利益率は、前年同期の24.20%から18.28%と悪化しました。

第3四半期時点の親会社の所有者に帰属する当期利益の進捗率は82.82%でした。

 

 

計画以上のペースで、業績は進捗しています。

 

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適時開示情報

2024年2月9日 2024年3月期 第3四半期決算短信

2023年10月25日 東京証券取引所プライム市場への上場に伴う当社決算情報等のお知らせ

 

株主還元について

過去の配当利回りと配当性向は以下です。

まだ配当は出していません。

 

2024年3月 0.28%

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

株主優待はありません

 

配当権利付き最終日・権利落ち

配当は、権利付き最終日までに買付をする必要があります。

権利落ち日以降は売却しても、配当の権利は確定できます。

 

KOKUSAI ELECTRICは、3月と9月が配当月になります。

 

権利付き最終日は、2024/3/27(水)、2024/9/26(木)です。

権利落ち日は、2024/3/28(木)、2024/9/27(金)です。

 

 

株価推移

10年チャートで見ると、上場以来上昇が続いていましたが、直近は下落しています。

 

過去10年チャート

 

6か月チャートで見ると、2月までは上昇が続いていましたが、それ以降は下落しています。

 

過去6か月チャート

 

finance.yahoo.co.jp

 

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株価指標

PER(株価収益率=株価が純利益に対して何倍か)  21.64倍 (予 43.17倍)

PBR(株価純資産倍率=株価が1株当たりの純資産の何倍か)  4.84倍

 

PERの目安は15倍、PBRは1倍なので、株価は割高といえます。

 

EPS(1株当たりの純利益) 174.78 (予 86.86)

BPS(1株当たりの純資産) 775.54

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

ROE自己資本利益率) 25.05% (予 11.20%)

ROA(純資産利益率) 10.89% (予 5.44%)

 

ROEの目安は10%、ROAは5%なので、経営効率は非常に優良といえます。

 

自己資本比率 47.8%

 

(引用:KOKUSAI ELECTRIC公式HP)

 

自己資本比率の目安は30%なので、安全性は良いといえます。

 

 

比較される銘柄

tomokutchi.hatenablog.com

tomokutchi.hatenablog.com

ニコン(7731)

 

まとめ

売上には波がありますが、拡大傾向が続いています。

利益も売上に連動して拡大しています。

2024年3月期は減収減益予想です。

 

一方、株価は上場後上昇が続いていましたが、直近は下落しています。

配当は小さいため、キャピタルゲイン狙い一択です。

 

業績は拡大傾向ですが、2024年度は減収減益で株価も下落中のため、長期投資するのは株価の下げ止まりまで待つのが良いです。

 

大型の銘柄で、値動きは小さそうなので、短期投資向けではありません。

 

ということで、私の投資判断としては以下です。

あくまでも私の私見ですので、投資の判断は自己責任でお願いします。

 

直近業績:〇

安全性:〇

成長・将来性:〇

収益性:◎

規模:〇

割安度:✖

値動き:△

 

高配当投資:△

長期投資(値上がり益):〇

短期投資:✖

 

株のプロによる推奨銘柄はコチラ! 

 

今回も最後まで読んで頂き、ありがとうございました。

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