こんにちは、ToMO（@tomo2011_08）です。
私は、サイドFIREを目指しています。
サイドFIREを目指す上で重要なことの1つとして、「投資」があります。
投資をして、今ある資産を拡大し、経済的自立を達成して、自分のやりたいことを仕事にしたいと思っています。
様々な投資の方法がありますが、その中の1つとして株式投資があり、株式投資を行う上で株式銘柄を分析することは非常に重要なことです。
日本株式投資をされる方の必需品といえるのが、以下の四季報になります。
お持ちでない方は、以下から購入して読まれることをお勧めします。
銘柄の事業内容は？、業績はどうか？、配当はいくらなのか？、現在の株価はいくらか？などを知って、投資するかしないかを決定したり、買い時・売り時を判断したりします。
私はこれまで20年以上様々な日本株銘柄に投資をしてきましたが、株式銘柄を分析した結果を残すことはしてきませんでした。
それではもったいないということで、今後の銘柄分析の結果をブログに残し、自身のためのみならず、ブログを見て頂いている方にとっても役に立てれば良いと考えています。
決算発表時やIRが出たタイミングで、最新の情報に更新しますので、読者登録やブックマークをして定期的にチェック頂くと非常に効果的です。
また、更新時にはX（Twitter）で発信しますので、私のXをフォロー頂くとさらにタイムリーな情報が受け取れ、効果的ですので、フォローをよろしくお願いします。
今回は、半導体製造装置で世界3位、コータデベロッパー、エッチング装置、成膜装置など前工程に強みを持つ東京エレクトロンについて調査をしました。
株式投資や就活のための企業研究をしておられる方におすすめの記事になります。
以下の情報は、2026年4月30日現在の情報になります。
目次
会社概要
（引用：東京エレクトロン公式HP）
東京エレクトロンは、半導体製造装置で世界3位、コータデベロッパー、エッチング装置、成膜装置など前工程に強みを持つ会社です。
半導体製造装置分野でのシェアは国内首位、世界第3位です。
東京証券取引所プライム市場の上場企業
日経平均株価およびTOPIX Core30、JPX日経400、JPXプライム150構成銘柄の1つ
半導体製造装置のグローバルリーディングカンパニーです。
半導体は、未来を形づくるもの。
半導体はPCやスマートフォン、自動車、データセンターなどあらゆるデジタル技術の根幹を支えています。
グローバルに広がる業界は、ダイナミックに発展を続けています。
東京エレクトロンは、将来の世界を想像し、戦略的な投資をおこなうことで、世の中にまだない半導体製造技術を生み出し、半導体製造装置の技術革新を牽引しています。
昨今の世界情勢を振り返りますと、気候変動による自然災害、貿易摩擦や地政学リスク、それに伴う人権問題などが、産業や社会、そして人々の生活にさまざまな影響をおよぼしています。
一方、このような状況においても経済活動が止まらない、強くしなやかな社会の構築に向けて、ICT（情報通信技術）を強力に実装するとともに、地球環境の保全に向けた脱炭素化など、さまざまな取り組みが進められています。
そしてその両立に必要なのが半導体の進化です。
IoT、AI、5Gの普及やあらゆる産業のスマート化、自動運転の展開、また注目を集めている生成AIやバーチャルリアリティ（VR）の実用化など、かつてないスピードでデータ社会への移行が進む中、デジタル技術の活用が一段と広がっています。
その根幹を支える半導体においては、さらなる大容量、高速、高信頼性、低消費電力など、技術革新への期待は留まるところを知りません。
半導体市場は、2030年には1兆米ドルになることが見込まれていますが、今後10年、20年先も成長は続いていくことが予想されています。
そして、当社が参画する半導体製造装置市場も、さらなる拡大が見込まれます。
当社は2023年に創立60周年を迎えました。
「半導体の技術革新に貢献する夢と活力のある会社」というビジョンのもと、当社の専門性を生かし、付加価値の高い最先端の装置と技術サービスを継続的に創出することで、中長期的な利益の拡大と継続的な企業価値の向上を目指していきます。
そして、企業の成長は人、社員は価値創出の源泉と位置づけ、ステークホルダーとのエンゲージメントを通じて、このビジョンの実現に向けて活動してまいります。
（引用：東京エレクトロン公式HP）
東京エレクトロンの企業理念は、企業として果たすべき使命とその実現に向けて、大切にする価値観や具体的な行動のあり方などを表す、4つの要素によって構成されています。
その中で、私たちの存在意義、社会的使命を定義した基本理念および創業時に制定された当社の原点である経営理念は、企業活動の拠りどころとなる基本的な考え方を示す最上位概念として位置づけられます。
（引用：東京エレクトロン公式HP）
まずは無料セミナーに参加♪【マネきゃん／Money Camp】 
関連セクター
沿革
▼クリックで詳細表示
1963年 - （株）東京放送の出資により、東京都港区赤坂に資本金500万円で（株）東京エレクトロン研究所を設立
拡散炉、リークディテクタ、IC製造機器の納入・販売を開始
1964年 - 米国サームコ社から拡散炉の輸入販売代理権を獲得し、販売を開始
1965年 - 米国フェアチャイルド社とICテスタの代理店契約
1966年 - ICテスタの1号機を輸入販売開始
1967年 - パネトロン（株）を設立し、日本初の輸入電子部品ストッキングディストリビュータとなる
サンフランシスコ事務所を開設
1968年 - 米国サームコ社と合弁会社テル・サームコ（株）を設立
テル・サームコ（株）で拡散炉の国内生産を開始
大阪支社を開設
1969年 - 横浜事業所を開設
テルトロン（株）を設立し、カーステレオOEM輸出販売を開始
1970年 - （株）メック・エンジニアリングを設立
横浜にテル・サームコ（株）社屋を移転し、拡散炉完全国産化へ
米国コビルト社と代理店契約
1971年 - （株）テル・エンジニアリングを設立
（株）メック・エンジニアリングでラインプリンタの販売を開始
1972年 - 東京プロセス開発（株）を設立、分析機器（公害防止機器）の輸入販売を開始
パネトロン（株）がインテル社の代理店としてマイクロプロセッサの輸入販売を開始
TEL America, Inc.を設立
1973年 - 米国コンピュータービジョン社と代理店契約を締結し、CAD/CAMシステムの輸入開始
山梨事業所を開設
ヨーロッパ事務所を設立
1974年 - ICテスタ拡販でフェアチャイルド社より表彰を受ける
1975年 - 民生機器の生産と輸出から撤退
1976年 - テル・サームコ社が世界初の高圧酸化装置を開発
1977年 - 米国KLA社と代理店契約
第1回セミコンジャパン開催・出展
1978年 - 「（株）東京エレクトロン研究所」から「東京エレクトロン（株）」へ商号を変更
日本初のICテストセンター開設
米国バリアン・アソシエイツ社と代理店契約
1980年 - 東京証券取引所市場第二部に上場
米国AMD社と代理店契約
野田経済研究所「優秀経営賞」を受賞
1981年 - テル・ジェンラッド（株）を設立、インサーキットボードテスタを国産化
1982年 - 山梨事業所内に総合研究所を設立
テル・バリアン（株）を設立、イオン注入装置を国産化
テル・メック（株）でクリーントラックを開発開始
1983年 - 米国ラム・リサーチ社と合弁会社テル・ラム（株）を設立
テル・サームコ（株）を横浜より神奈川県津久井郡城山町に社屋を移転
日経・優良企業ランキング4位
九州事業所を熊本県に開設
1984年 - 東京証券取引所市場第一部に指定替え
日経・優れた会社ランキング（PRISM）4位
1985年 - 半導体商社として初の横浜VLSIデザインセンターを開設
東北事業所を開設
日経・優良企業ランキング4位
1986年 - 山梨県韮崎市穂坂工業団地内に総合研究所が完成
テル・サームコ製縦型拡散炉1号機出荷
テル・ラム（株）を100%子会社化し、翌年、テル山梨（株）に社名変更
半導体製造装置の輸出を開始
テル東北エレクトロニクス（株）を設立
1987年 - テル九州（株）を設立
府中事業所を開設
1988年 - テル・サームコ（株）を100%子会社化し、テル相模（株）に社名変更
1989年 - 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位
バリアン・テル（株）を米国カリフォルニアに設立
1990年 - フラットパネルディスプレイ製造装置市場へ本格参入
東京エレクトロンFE（株）を設立
東京エレクトロンデバイス（株）を設立
1991年 - 半導体製造装置メーカー売上高世界ランキング1位（3年連続）
東京エレクトロン札幌（株）を設立
東京エレクトロン佐賀（株）を設立
1992年 - テル・エンジニアリング（株）を設立
1993年 - Tokyo Electron FE Korea Ltd.を設立
ディスプレイ製造装置コータ/デベロッパの販売を開始
1994年 - Tokyo Electron Europe Ltd.を設立
TEL America, Inc.からTokyo Electron America, Inc.へ社名変更
枚葉CVD装置初号機を出荷
1995年 - 企業スローガン「Customer Satisfaction」を制定（当時）
初の海外開発・製造拠点であるTokyo Electron Oregon, Inc.を設立
東京エレクトロン九州（株）大津事業所を開設
Tokyo Electron FE Korea Ltd.の全株式を取得し、Tokyo Electron Korea Ltd.を設立
1996年 - Tokyo Electron Taiwan Ltd. を設立
Tokyo Electron Massachusetts, Inc.を設立
Tokyo Electron Phoenix Laboratories, Inc.を設立
Tokyo Electron Texas, Inc.を設立
1997年 - 東京エレクトロン宮城（株）を設立（松島事業所）
1998年 - 山梨・穂坂地区に300mmウェーハ対応のプロセステクノロジーセンター完成
取締役会と執行体との機能分離
報酬委員会、倫理委員会・倫理担当取締役を設置
ストックオプション制度を導入
Tokyo Electron Arizona, Inc.を設立
東京エレクトロンEE（株）を設立
Tokyo Electron Israel Ltd.を設立
1999年 - 東京証券取引所「第4回ディスクロージャー優良企業」に選定
東京証券取引所第一部における業種変更「商業」から「電気機器」へ
代表取締役の個別報酬開示
2000年 - 半導体業界における環境対策活動への功績を称え「SEMI井上皓賞」がSEMIにより新設
コータ/デベロッパ「CLEAN TRACK™️ ACT™ 8」1,000台出荷達成
東京エレクトロン株、日経225銘柄に採用される
Supercritical Systems社を買収
指名委員会を設置
2001年 - コーポレートメッセージ「People. Technology. Commitment.」を制定
Timbre Technologies社を買収
ISSよりExcellence in Corporate Governance（ECG）を受賞
2002年 - 産学共同の研究開発推進支援プログラム（Albany NanoTechプログラム）に参加
Tokyo Electron （Shanghai） Logistic Center Ltd.を設立
東京エレクトロンソフトウェア・テクノロジーズ（株）を設立
2003年 - 産学官連携の功績が認められ内閣総理大臣賞を受賞
Tokyo Electron （Shanghai） Ltd.を設立
TEL Technology Center, America, LLCを設立
執行役員制を導入
2004年 - 米国持株会社Tokyo Electron U.S.Holdings, Inc.を設立
2005年 - 第10回ディスクロージャー表彰を受賞（1999年に続き2度目）
スマトラ沖地震・津波災害への支援が評価され、紺綬褒状を授与される
2006年 - 行動規範として「TEL Values」を制定する
Tokyo Electron Korea Solution Ltd.を設立
米国にTEL Venture Capital, Inc.を設立
TEL Epion Inc.を設立（米国Epion社を買収）
縦型熱処理成膜装置10,000台を出荷
2007年 - 人材育成の社内機関「TEL UNIVERSITY」を設立
ウェーハプローバ累計20,000台を出荷
2008年 - 「知財功労賞」を受賞
Tokyo Electron India Private Ltd.を設立
2007年度プリズムランキング（優れた会社ランキング）で総合2位
2009年 - 太陽光パネル製造装置事業への参入（2012年 スイスOerlikon Solar社を買収）
2010年 - 東京エレクトロン宮城（株）を設立（大和事業所）
2011年 - 北京大学に「Tokyo Electron Scholarship」を創設
SiCエピタキシャル成膜装置Probus-SiC™が「半導体・オブ・ザ・イヤー2011」でグランプリを受賞
世界で最も持続可能な企業100社（Global 100）に選出
- Tokyo Electron （Kunshan）Ltd. を設立
2012年 - Tokyo Electron Singapore PTE Ltd.を設立
TEL NEXX, Inc.を設立（米国NEXX Systems社を買収、2018年10月に株式譲渡完了）
TEL FSI, Inc.を設立（米国FSI International社を買収）
TEL Magnetic Solutions Ltd.を設立（アイルランドMagnetic Solutions社を買収）
ウェーハボンディング/デボンディング装置「Synapse™シリーズ」が「半導体・オブ・ザ・イヤー2012」で優秀賞を受賞
東北大学新産学連携センターにてSTT-MRAM製造装置の技術開発を開始
2013年 - 創立50周年を迎える
国連グローバル・コンパクトに参加
米国Applied Materials, Inc.との経営統合契約を締結
2014年 - 東京エレクトロンデバイス（株）株式の一部を売却し、連携子会社から持分法適用関連会社へ異動
太陽光パネル製造装置事業から撤退
枚葉洗浄装置「CELLESTA™ -i MD」が「半導体・オブ・ザ・イヤー2014」でグランプリを受賞
枚葉成膜装置「Triase+™ EX-II™ TiN」において累計250チャンバー出荷を達成
2015年 - トムソン・ロイター （現リフィニティブ)）社より「Top 100 グローバル・イノベーター2014」を受賞
米国Applied Materials, Inc.との経営統合契約を解消
東京エレクトロン コーポレートガバナンス・ガイドラインを制定
TOKYO ELECTRON House of Creativity（東北大学知の館）が竣工
新生TELとして再出発（Vision、中期経営計画の策定、コーポレートロゴ刷新）
電子業界のCSRアライアンス「EICC」に加盟
次世代半導体向けスパッタリング装置「EXIM™」が「半導体・オブ・ザ・イヤー2015」で優秀賞を受賞
2016年 - 東京エレクトロン宮城 (株) 、エッチング装置 プロセスチャンバー5,000台出荷を達成
産学官連携功労者表彰で内閣総理大臣賞受賞
2017年 - 東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ（株）を設立（グループ会社の合併による）
Forbes Japan「日本を動かす経営者ベスト100」に選定
- 2018年 - トムソン・ロイター （現リフィニティブ） 社による「Top 100 Global Tech Leaders」に選出
- Tokyo Electron （Malaysia） Sdn. Bhd.を設立
2019年 - 米国BRIDGとパートナーシップを提携
2020年 - TEL Manufacturing and Engineering of America, Inc. を設立 （グループ会社の合併による）
- 東 哲郎 （元会長・社長） が旭日重光章を受章
2021年 - 「第2回ROESGランキング (2020年度版)」にて国内首位を獲得
TOPIX Core30の構成銘柄に選定
環境への取り組み強化に向けたサプライチェーンイニシアティブ「E-COMPASS」立ち上げ
2022年 - 「コーポレートガバナンス・オブ・ザ・イヤー®2021」で「Grand Prize Company (大賞)」を受賞
東京証券取引所プライム市場に指定替え
ベストIR企業ランキングにて「Most Honored Company」に7年連続選定
新ビジョン「半導体の技術革新に貢献する夢と活力のある会社」とコーポレートメッセージ「Technology Enabling Life」を発表
高い収益性を達成・維持している企業を表彰する「ポーター賞」を受賞
2023年 - クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を2年連続受賞
TELは「健康経営優良法人」上位500社に5年連続認定
Institutional InvestorベストIR企業ランキングにて6項目で１位となる「All-Star」に初選定
日米大学間パートナーシップ（UPWARDS）に参画
超高速メモリチャネルホールエッチング技術（地球温暖化係数84%減）を開発
Tokyo Electron Philippines Semiconductor Support Inc.を設立
「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に7年連続選定
Forbes JAPAN『新しい「いい会社」100』ステークホルダー資本主義ランキングにて第１位を獲得
2023年11月11日に創立60周年を迎える
最先端デバイス3次元実装の技術革新に貢献するレーザ剥離技術を開発
社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に8年連続選定
2024年 - クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を3年連続受賞
TELは「健康経営優良法人」上位500社に6年連続認定
Institutional InvestorベストIR企業ランキングにて「Most Honored Company」に9年連続選定
「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に8年連続選定
「トビタテ！留学JAPAN 新・日本代表プログラム」への支援に対し、紺綬褒章を受章
SEMI SCC-EC(Energy Collaborative)に参画
「PRIDE指標2024」ゴールド認定を取得
社会的責任投資指標「DJSI Asia Pacific」の構成銘柄に9年連続選定
2025年 - クラリベイト社が選出する「Clarivate Top 100 グローバル・イノベーター」を4年連続受賞
「FTSE Blossom Japan Index」および「MSCIジャパンESGセレクト・リーダーズ指数」に9年連続選定
「PRIDE指標2025」ゴールド認定を2年連続で取得
東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ東北事業所 RBA監査でプラチナ・ステータスを取得
事業内容
東京エレクトロンの事業セグメントは、以下の2つです。
連結売上の約9割を半導体製造装置が占めます。
また、半導体製造装置売上の地域別構成比は、海外が9割強。
近年、特にアジアの比率が非常に高まっています。
半導体やフラットパネルディスプレイ（FPD）が作られるまでには、その製造プロセスの各段階において様々な種類の装置が必要になります。
東京エレクトロンは、半導体製造装置とFPD製造装置で多様な製品群を持つ、世界的に少ないマルチプロダクトサプライヤーです。
（引用：東京エレクトロン公式HP）
【連結事業】半導体製造装置 100%
【海外】92%
半導体製造装置
半導体の製造における主要な工程をカバーする東京エレクトロンの半導体製造装置は、世界のマーケットで高い評価を獲得しています。
（引用：東京エレクトロン公式HP）
FPD製造装置
FPD製造装置には、半導体製造装置の開発によって培われた高い技術力が応用されています。
FPD製造装置は半導体製造装置とともに、東京エレクトロンの代表的な製品となっています。
（引用：東京エレクトロン公式HP）
時価総額
東京エレクトロンの時価総額は22.2082兆円です。（2026年5月1日現在）
社員の状況
従業員数：連結 19,573名
単体 2,224名
平均勤続年数：14.9年
平均年齢：43.5歳
平均年収：1354万円
業績
2026年4月30日に発表された2026年3月期の決算短信は以下になります。
連結売上高は前期比0.5%増、経常利益は10.9%減で6,303億3,800万円となっています。
売上高営業利益率は前年の28.68%から25.58%と悪化しました。
2027年3月期の業績予想は増収増益となっています。
適時開示情報
2026年4月30日 2026年3月期決算短信
▼クリックで詳細表示
2026年4月27日 当社台湾子会社に対する判決について
2026年3月27日 自己株式の消却に関するお知らせ 0.76%
2026年2月6日 2026年3月期 第3四半期決算短信
2026年2月6日 自己株式の取得に係る事項の決定に関するお知らせ 1.6%
2026年2月6日 投資有価証券売却益（特別利益）の計上見込みに関するお知らせ
2025年12月3日 当社台湾子会社の起訴について
2025年10月31日 2026年3月期 第2四半期決算短信
2025年10月31日 剰余金の配当に関するお知らせ
2025年7月31日 2026年3月期 第1四半期決算短信
2025年5月9日 剰余金の配当（2025年3月期期末配当）に関するお知らせ
2025年4月30日 2025年3月期決算短信
2025年2月6日 2025年3月期 第3四半期決算短信
2024年11月12日 2025年3月期 第2四半期決算短信
2024年11月12日 剰余金の配当に関するお知らせ
2024年11月12日 自己株式の取得に係る事項の決定に関するお知らせ 0.8%
2024年8月8日 2025年3月期 第1四半期決算短信
2024年8月8日 業績予想及び配当予想の修正に関するお知らせ
2024年5月10日 2024年3月期決算短信
2024年5月10日 剰余金の配当（2024年3月期期末配当）に関するお知らせ
2024年5月10日 自己株式の取得に係る事項の決定に関するお知らせ 0.8%
2024年2月9日 2024年3月期 第3四半期決算短信
2024年2月9日 業績予想及び配当予想の修正に関するお知らせ
2023年11月10日 2024年3月期 第2四半期決算短信
2023年11月10日 剰余金の配当（2024年3月期中間配当）に関するお知らせ
2023年11月10日 業績予想の修正に関するお知らせ
2023年8月10日 2024年3月期 第1四半期決算短信
2023年5月11日 2023年3月期決算短信
株主還元について
過去の配当利回りと配当性向は以下です。
直近は2.0%前後の配当を出しています。
2014年3月 0.79% -%（赤字）
2015年3月 1.71% 35.7%
2016年3月 3.23% 51.4%
2017年3月 2.90% 50.1%
2018年3月 3.12% 50.1%
2019年3月 4.74% 50.1%
2020年3月 2.89% 50.2%
2021年3月 1.67% 50.0%
2022年3月 2.22% 50.0%
2023年3月 3.56% 56.6%
2024年3月 0.99% 50.1%
2025年3月 2.94% 50.1%
2026年5月 -%
株主優待はありません。
配当権利付き最終日・権利落ち日
配当は、権利付き最終日までに買付をする必要があります。
権利落ち日以降は売却しても、配当の権利は確定できます。
東京エレクトロンは、3月と9月が配当月になります。
権利付き最終日は、2026/3/27(金)・2026/9/28(月)です。
権利落ち日は、2026/3/30(月)・2026/9/29(火)です。
株価推移
10年チャートで見ると、2022年までは右肩上がりで上昇しましたが、一度下落したのち再度上昇傾向が続いています。
直近は下落後上昇しています。
過去10年チャート
6か月チャートで見ると、上昇が続いています。
過去6か月チャート
株価指標
PER（株価収益率＝株価が純利益に対して何倍か） 35.15倍 （予 -倍）
PBR（株価純資産倍率＝株価が1株当たりの純資産の何倍か） 9.87倍
PERの目安は15倍、PBRは1倍なので、株価は割高といえます。
EPS（1株当たりの純利益） 1,254.57 （予 -）
BPS（1株当たりの純資産） 4,498.84
（引用：東京エレクトロン公式HP）
ROE（自己資本利益率） 31.99% （予 -%）
ROA（純資産利益率） 20.08% （予 -%）
（引用：東京エレクトロン公式HP）
ROEの目安は10倍、ROAは5倍なので、経営効率は非常に優良といえます。
自己資本比率 71.5%
（引用：東京エレクトロン公式HP）
自己資本比率の目安は30%なので、安全性は非常に良いといえます。
信用倍率 3.58倍（2026年4月24日現在）
比較される銘柄
まとめ
近年ニュースになることも多い半導体セクターの代表的な銘柄で、人気も高いです。
半導体セクターの活況には波があるのが一般的で、売上にも波があります。
波がある中でも売上は拡大傾向で、利益率も高いため利益はどんどん大きくなっています。
2027年3月期は増収増益予想です。
しかし、良い企業であることは確かなので安くなったところを買うのが最良です。
配当もあるので、ある程度長期の投資がおすすめでしょう。
大型の銘柄ですが、値動きは大きそうなので、短期投資でキャピタルゲインを狙うのもありです。
ということで、私の投資判断としては以下です。
あくまでも私の私見ですので、投資の判断は自己責任でお願いします。
直近業績：〇
安全性：◎
成長・将来性：◎
収益性：◎
規模：◎
割安度：✖
値動き：〇
高配当投資：〇
長期投資（値上がり益）：◎
短期投資：〇
今回も最後まで読んで頂き、ありがとうございました。
この記事がいいと思ったら、いいねやブックマーク、読者登録をよろしくお願いします。
最新の情報を発信していますので、X（Twitter）のフォローもよろしくお願いします。
